ORP測(cè)定儀的相關(guān)原理

• 　　1、氧化還原電位的傳統(tǒng)測(cè)定方法

  　　長(zhǎng)期以來氧化還原電位是采用鉑電極直接測(cè)定法。即將鉑電極和參比電極直接插入介質(zhì)中來測(cè)定。ORP電極是一種可以在其敏感層表面進(jìn)行電子吸收或釋放的電極，該敏感層是一種惰性金屬，通常是用鉑和金來制作。參比電極是飽和甘汞電極或銀/氯化銀電極。

  　　2、氧化還原電位的傳統(tǒng)測(cè)定法的特點(diǎn)

  　　氧化還原電位的傳統(tǒng)測(cè)定法十分簡(jiǎn)單，它由ORP復(fù)合電極和mV計(jì)組成。但達(dá)到平衡電位值的時(shí)間較長(zhǎng)，特別在測(cè)定弱平衡體系時(shí)，由於鉑電極并非**的惰性，其表面可形成氧化膜或吸附其他物質(zhì)。影響各氧化還原電對(duì)在鉑電極上的電子交換速率，因此平衡電位的建立極爲(wèi)緩慢，在有的介質(zhì)中需經(jīng)幾小時(shí)甚至一、二天， 而且測(cè)定誤差甚大，通常40-100mV.因此通常在ORP測(cè)定中人爲(wèi)規(guī)定一個(gè)讀數(shù)時(shí)間，如5分鐘，或者10分鐘，或者30分鐘------等。在發(fā)表文章或上報(bào)資料時(shí)，必須標(biāo)識(shí)讀數(shù)時(shí)間。

  　　3、得到相對(duì)**的測(cè)定結(jié)果的方法

  　　如果充分考慮了鉑電極的表面性質(zhì)和電極電位建立的動(dòng)力學(xué)過程，對(duì)復(fù)雜的介質(zhì)，如果采用了去極化法測(cè)定氧化還原電位，可以在較短時(shí)間2分鐘內(nèi)得到較爲(wèi)**的結(jié)果，這個(gè)結(jié)果相當(dāng)於傳統(tǒng)測(cè)定方法平衡48小時(shí)的電位，通常兩者小於10mV或更好。

  　　4、氧化還原電位去極化法測(cè)定法

  　　將極化電壓調(diào)節(jié)到600-750mV,以銀-氯化銀電極作爲(wèi)輔助電極，鉑電極接到電源的正端，陽(yáng)極極化（極化時(shí)間5-15秒中自由選擇），接著切斷極化電源（去極化時(shí)間在20秒以上自由選擇），去極化時(shí)監(jiān)測(cè)鉑電極的電位（對(duì)甘汞電極）。電極電位E（毫伏）和去極化時(shí)間的對(duì)數(shù)logt之間存在直線關(guān)系。以相同的方法進(jìn)行陰極極化和隨後的去極化監(jiān)測(cè)。陽(yáng)極去極化曲線與陰極去極化曲線的延長(zhǎng)線的交點(diǎn)相當(dāng)於平衡電位。二條曲線的方程爲(wèi)：

  　　E陽(yáng)=a1+b1logt陽(yáng)

  　　E陰=a2+b2logt陰

  　　求解此二直線方程可得到平衡電位公式  E=（a2b1-a1b2）/（b1-b2）

  　　平衡電位加上該溫度下參比電極的電位值，即可求出ORP值。

  　　將有關(guān)兩條去極化曲線的資料登錄電腦，即可自動(dòng)算出土壤的ORP值。

  　　這種方法如果用手工測(cè)定，不但過程操作緊張，測(cè)定誤差大，而且數(shù)學(xué)處理繁重。
  

  ORP測(cè)定儀

  特點(diǎn)： ·         OPR（氧化還原電位） ·         高準(zhǔn)確度、搞分辨率 ·         酸堿計(jì)電極自動(dòng)溫度補(bǔ)償、自動(dòng)識(shí)別校正溶液 ·         讀值鎖定、*大/*小值記錄功能 ·         低電壓提示 ·         自動(dòng)關(guān)機(jī)功能，可取消 ·         顯示mV

  規(guī)格：

   

  量程范圍	mV: -199~+199、-1999~+1999mV
  分辯率	0.01PH/0.1mV(-199~+199)/1mV（-1999~+1999）
  準(zhǔn)確度	±0.02PH/±0.2mV
  顯示	4位數(shù)
  操作環(huán)境	0-80%RH,0-50℃
  尺寸	175x70x33mm
  重量	320克
  供電電源	9V電池或外接9V電源
  附件	9V電池、說明書

  ORP測(cè)定儀的注意事項(xiàng)

  • 　　1、儀器必須通電半小時(shí)以上，進(jìn)行預(yù)熱。

    　　2、鉑電極的表面經(jīng)常按要求處理，它是正確測(cè)定ORP的關(guān)鍵。

    　　3、飽和甘泵電極里的飽和KCL2必須保持飽和，否則會(huì)導(dǎo)致點(diǎn)位錯(cuò)誤。

    　　4、儀器使用時(shí)必須保持清潔和干燥。